[发明专利]一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法

摘要

本发明公开了一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，包括如下步骤在平面衬底上涂敷一层光刻胶；对光刻胶进行图形化，在衬底上暴露需要制备场发射点的区域；镀覆金属薄膜；在金属薄膜上磁场辅助沉降镍纳米颗粒；在真空炉中进行热处理；在样品表面沉积一层氧化石墨烯；除去剩余光刻胶，得到场发射点阵；对场发射点阵进行布线；在样品上方平行放置镀有荧光粉的ITO玻璃片，样品与玻璃用绝缘材料隔开一定距离，制成场发射平板模块；使用单片机和移位寄存器数组成外围电路，实现屏显。本发明制备的平板显示仪的电子源是一种新型的场发射体结构，具有发射电流稳定，驱动电压小以及电子发射效率高等特点。

主权项

一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：步骤一，在衬底上涂覆光刻胶；步骤二，对所述光刻胶进行图形化，使所述衬底上暴露需要制备场发射点的区域；步骤三，镀覆金属薄膜；步骤四，在所述金属薄膜上磁场辅助沉降镍纳米颗粒；步骤五，在真空炉中对步骤四得到的样品进行热处理；步骤六，在步骤五得到的样品表面沉积氧化石墨烯；步骤七，除去样品上剩余的光刻胶，得到场发射点阵；步骤八，对场发射点阵进行布线；步骤九，在步骤八得到的样品上方平行放置镀有荧光粉的ITO玻璃片，样品与所述玻璃片用绝缘材料隔开一定距离，制成场发射平板模块；步骤十，使用单片机和移位寄存器数组成外围电路，结合所述场发射平板模块实现屏显；步骤五中，所述热处理是指：在200℃～600℃的真空或者惰性气体保护气氛中加热5～8小时。