[发明专利]具有抗干涉条纹结构的辉度增强光学基底在审

专利信息
申请号: 201510241986.6 申请日: 2010-08-11
公开(公告)号: CN104808282A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 王康华;王凯俊;叶芳君 申请(专利权)人: 友辉光电股份有限公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00;G02B5/04;G02F1/1335;G02F1/13357
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种具有结构化光输出面的光学基底,该输出面包括多行横向布置的蛇形、波状或弯曲的纵向棱柱结构。光输出面的棱柱结构可呈现为包括多行横向弯曲的纵向棱柱、和/或端对端结合以形成整体弯曲纵向棱柱结构的曲段部分。纵向棱柱结构的横向弯曲行布置成横向平行(并排),限定出平行的峰谷(在各相邻峰谷之间限定出小平面)。在一个实施例中,横向波纹是规则的,具有恒定或可变的波长和/或波幅(或横向变形程度)。横向波纹可大致呈正弦曲线等弯曲轮廓。结构化光输出面还可包括沿各波状棱柱结构的发生变化的峰高、和/或预定的结构不规则部,例如分布在结构化表面中的非小平面平坦部。
搜索关键词: 具有 干涉 条纹 结构 增强 光学 基底
【主权项】:
一光学膜,包含结构化第一主表面和相对于所述结构化第一表面的第二主表面,其特征在于,所述结构化第一主表面包含蜿蜒曲折的第一棱镜组件和第二棱镜组件。
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