[发明专利]沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法有效
| 申请号： | 201510242242.6 | 申请日： | 2015-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN106191767B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 韩政洹 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开掩模、掩模框架组件及其制造方法。本发明涉及使沉积物质通过以沉积到衬底上以制造显示装置的沉积用掩模，其包括供所述沉积物质通过的沉积图案部、与所述沉积图案部连接并支承所述沉积图案部的肋部以及与所述衬底面对地凹陷形成在所述沉积图案部和所述肋部的外围的凹陷部。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 用掩模 框架 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种沉积用掩模，沉积物质通过所述沉积用掩模沉积到衬底上以制造显示装置，其包括：沉积图案部，供所述沉积物质通过；肋部，与所述沉积图案部连接并支承所述沉积图案部；凹陷部，与所述衬底面对地凹陷形成在所述沉积图案部和所述肋部的外围；以及凸起，在所述凹陷部的外侧从所述凹陷部的底面凸出。
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