[发明专利]掩模框架组件及其制造方法在审
| 申请号： | 201510242243.0 | 申请日： | 2015-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN106191768A | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 全志妍 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了掩模框架组件及其制造方法。本发明包括框架和沉积掩模，其中，所述框架具有开口部和围绕所述开口部的支承部，所述沉积掩模包括位于与所述开口部对应的位置处的沉积区域，所述沉积掩模具有第一掩模和第二掩模，所述第一掩模形成有供沉积物质通过的第一开口，所述第二掩模与所述第一掩模的一面连接并形成有与所述第一开口对应的第二开口。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模框架组件，包括：框架，具有开口部和围绕所述开口部的支承部；以及沉积掩模，包括位于与所述开口部对应的位置处的沉积区域，其中，所述沉积掩模包括：第一掩模，形成有供沉积物质通过的第一开口；以及第二掩模，与所述第一掩模的一面连接，并且形成有与所述第一开口对应的第二开口。
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