[发明专利]用于监控腐蚀环境的装置以及方法有效
| 申请号： | 201510246813.3 | 申请日： | 2015-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN105092456B | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 南谷林太郎;串田则行;出野彻哉 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G01N17/00 | 分类号： | G01N17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 金光华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于监控腐蚀环境的装置以及方法。提供一种用于监控腐蚀环境的装置，包括：至少一个通路构造，具有开口部，并且被配置为控制空气中的腐蚀性物质的侵入；以及传感器部，具有设置于通路构造内的金属薄膜。通路构造内的金属薄膜由于从开口部侵入到通路构造的腐蚀性物质而腐蚀。在监控期间，金属薄膜的电阻值根据金属薄膜的腐蚀区域的扩展而变化。从而，用于监控腐蚀环境的装置测定金属薄膜的电阻值，抑制测定出的值的变动。这使得能够长期且高精度地评价电气电子装置的设置环境的腐蚀程度。 | ||
| 搜索关键词： | 金属薄膜 腐蚀环境 通路构造 监控 腐蚀性物质 开口部 电阻 侵入 腐蚀 电气电子装置 传感器部 腐蚀区域 监控期间 设置环境 配置 | ||
【主权项】：
1.一种用于监控腐蚀环境的装置，具备：传感器部；至少一个通路构造，所述至少一个通路构造的每个与所述传感器部一起形成，以便控制空气中的腐蚀性物质的侵入；以及金属薄膜，包括在所述传感器部中，并设置于所述至少一个通路构造内，其中，所述金属薄膜的电阻值根据从所述通路构造的开口部侵入的所述腐蚀性物质所致的金属薄膜的腐蚀区域的扩展而变化，所述用于监控腐蚀环境的装置被配置为测定所述金属薄膜的电阻值，所述金属薄膜具有暴露于空气的露出部，所述露出部具有矩形形状，并且所述金属薄膜还具有未暴露于空气的非露出部，所述非露出部设置于所述矩形形状的外周，并且与所述矩形形状的至少三个不同的边直接接触。
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