[发明专利]电感耦合等离子体处理系统及处理方法有效
申请号: | 201510253305.8 | 申请日: | 2015-05-18 |
公开(公告)号: | CN106298418B | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 罗伟义;刘骁兵;倪图强 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05H1/46;H01L21/67 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种电感耦合等离子体的处理系统,其包括射频电源系统,所述射频电源系统包括源射频电源系统和偏置射频电源系统,所述源射频电源系统包括源射频电源和源匹配网络,所述偏置射频电源系统包括偏置射频电源和偏置匹配网络,其中,所述源匹配网络为具有宽频带工作的固定匹配网络,所述偏置匹配网络为自动匹配网络。源匹配网络能够使得源射频功率源的阻抗与等离子体阻抗的快速匹配,偏置匹配网络使得在低偏置射频功率下能够始终得到非常低的反射功率。因此,该处理系统能够实现射频电源和等离子体之间的阻抗快速准确地调整。此外,本发明还提供了电感耦合等离子体处理方法。 | ||
搜索关键词: | 电感 耦合 等离子体 处理 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电感耦合等离子体的处理系统,其特征在于,所述处理系统包括:反应腔室、静电夹盘、阴极和电感耦合线圈,所述静电夹盘设置在所述反应腔室内的内部、所述阴极设置在所述静电夹盘的下方,所述电感耦合线圈设置在所述反应腔室顶盖上方或侧壁上,所述处理系统还包括射频电源系统,所述射频电源系统包括源射频电源系统和偏置射频电源系统,所述源射频电源系统包括源射频电源和源匹配网络,所述偏置射频电源系统包括偏置射频电源和偏置匹配网络,所述源匹配网络的输入端连接所述源射频电源的输出端,所述源匹配网络的输出端连接所述电感耦合线圈的输入端,所述偏置匹配网络的输入端连接所述偏置射频电源的输出端,所述偏置匹配网络的输出端连接所述阴极;其中,所述源射频电源为调频电源,所述偏置射频电源为固定频率的电源,所述源匹配网络为具有宽频带工作的固定匹配网络,所述偏置匹配网络为自动匹配网络;所述固定匹配网络中包括可变电容,所述自动匹配网络中包括可变电容和可变电感。
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