[发明专利]一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘有效
申请号: | 201510253487.9 | 申请日: | 2015-05-18 |
公开(公告)号: | CN104914679B | 公开(公告)日: | 2018-11-20 |
发明(设计)人: | 宋耀东;项宗齐;方林;何少锋 | 申请(专利权)人: | 合肥芯硕半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;F16B47/00 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230601 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘,包括有下吸盘,下吸盘上固定有上吸盘,上吸盘上设有十字定位槽,十字定位槽内嵌装有十字定位支架;十字定位支架的正面中心设有十字凸起,所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽;十字定位支架背面朝上时,其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内;十字定位支架正面朝上时,十字凸起部位高出十字定位槽外。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 光刻 多功能 产能 吸盘 | ||
【主权项】:
1.一种用于半导体光刻的多功能吸盘,其特征在于:包括有下吸盘,下吸盘上固定有上吸盘,上吸盘上设有十字定位槽,十字定位槽内嵌装有十字定位支架;十字定位支架的正面中心设有十字凸起,所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽;十字定位支架背面朝上时,其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内;十字定位支架正面朝上时,十字凸起部位高出十字定位槽外。
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