[发明专利]一种钋自沉积制源的试验装置在审
申请号: | 201510254764.8 | 申请日: | 2015-05-18 |
公开(公告)号: | CN106289891A | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 李鹏翔;李周;韩玉虎;张静;王瑞俊;高泽全;任晓娜;姜凯;宋沁楠;保莉;杨宇轩;李园 | 申请(专利权)人: | 中国辐射防护研究院 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01T1/167 |
代理公司: | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙)11311 | 代理人: | 田明,任晓航 |
地址: | 030006 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明涉及一种钋自沉积制源的试验装置,该装置包括用于盛放自沉积样品溶液的开口容器(3),所述开口容器(3)通过密封塞(2)密封,所述密封塞(2)内从上至下穿设有中空管(1),所述中空管(1)的下端延伸至开口容器(3)内;所述开口容器(3)内放置镀片,所述镀片浸没在样品溶液中。采用本发明的试验装置,能够防止高温搅拌作用下自沉积体系发生变化,同时避免Po在高温下发生挥发,保证了较高的稳定回收率;本发明的钋自沉积制源装置简便易行,安全可靠。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 试验装置 | ||
【主权项】:
一种钋自沉积制源的试验装置,其特征是:该装置包括用于盛放自沉积样品溶液的开口容器(3),所述开口容器(3)通过密封塞(2)密封,所述密封塞(2)内从上至下穿设有中空管(1),所述中空管(1)的下端延伸至开口容器(3)内且与开口容器内自沉积样品溶液(4)不接触;所述开口容器(3)内放置镀片,所述镀片完全浸没在样品溶液中。
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