[发明专利]一种获取光场均匀化激光的装置有效
| 申请号： | 201510260084.7 | 申请日： | 2015-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN104898285B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | 邱运涛;许商瑞;张雨桐;尧舜;刘友强;曹银花;王智勇 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种获取光场均匀化激光的装置，该装置包括用于对激光进行相位调制的全息散光片和MEMS变形镜；所述全息散光片位于所述MEMS变形镜的上方，且与所述MEMS变形镜间隔预设距离；其中，激光光束照射全息散光片的第一面，穿透所述全息散光片之后进入所述MEMS变形镜，经由所述MEMS变形镜反射后再次从全息散光片的第二面进入所述全息散光片，从所述全息散光片的第一面出射消除激光光束中干涉现象的光场均匀化激光；所述全息散光片的第一面远离所述MEMS变形镜。本发明公开的装置，有效的实现了激光光场的均匀化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 获取 均匀 激光 装置 | ||
【主权项】：
一种获取光场均匀化激光的装置，其特征在于，该装置包括：用于对激光进行相位调制的全息散光片和MEMS变形镜；所述全息散光片位于所述MEMS变形镜的上方，且与所述MEMS变形镜间隔预设距离；其中，激光光束照射全息散光片的第一面，穿透所述全息散光片之后进入所述MEMS变形镜，经由所述MEMS变形镜反射后再次从全息散光片的第二面进入所述全息散光片，从所述全息散光片的第一面出射消除激光光束中干涉现象的光场均匀化激光；所述全息散光片的第一面远离所述MEMS变形镜；所述MEMS变形镜包括：基板，位于所述基板上方的MEMS变形镜控制电极阵列，位于所述MEMS变形镜控制电极阵列上方的用于跟随所述MEMS变形镜控制电极阵列的电压产生形变的变形膜，所述变形膜上方设置有反射膜，所述变形膜通过固定在所述基板上的第一支撑柱阵列支撑，所述反射膜通过固定在所述变形膜上的第二支撑柱阵列支撑，且所述第一支撑柱阵列和所述第二支撑柱阵列平行，但所述第一支撑柱阵列中的每一个支撑柱和所述第二支撑柱阵列中的每一个支撑柱不在同一直线上。
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