[发明专利]一种用于离子注入机的30°平行透镜有效
| 申请号： | 201510262780.1 | 申请日： | 2015-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN104867803B | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 张赛;胡振东;彭立波;易文杰;袁卫华;孙雪平 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/141 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及为一种用于离子注入机的30°平行透镜，包括结构及尺寸一致且上下对称安装的上磁极和下磁极，上磁极的上方设有上磁轭，下磁极的下方设有下磁轭，上磁极的顶面与上磁轭的底面连接，而下磁极的底面与下磁轭的顶面连接；该平行透镜还设有两个中间磁轭，两个中间磁轭的顶端均与上磁轭的底面连接，而两个中间磁轭的底端均与下磁轭的顶面连接，且上磁极和下磁极置于两个中间磁轭之间；上磁极的下磁极面与下磁极的上磁极面边缘的均由多条弧线构成。本发明磁极面形状合理，可以使离子束注入角度保持一致、保证均匀性和重复性，并可以防止入射离子在半导体晶片的晶格结构上产生沟道效应，也可以使之产生均匀的需要的沟道。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 离子 注入 30 平行 透镜 | ||
【主权项】：
一种用于离子注入机的30°平行透镜，其特征是，包括结构及尺寸一致且上下对称安装的上磁极（3）和下磁极（4），上磁极（3）的上方设有上磁轭（2），下磁极（4）的下方设有下磁轭（6），所述上磁极（3）的顶面与上磁轭（2）的底面连接，而下磁极（4）的底面与下磁轭（6）的顶面连接；该平行透镜还设有两个中间磁轭（1，5），两个中间磁轭（1，5）的顶端均与上磁轭（2）的底面连接，而两个中间磁轭（1，5）的底端均与下磁轭（6）的顶面连接，且上磁极（3）和下磁极（6）置于两个中间磁轭（1，5）之间；所述上磁极（3）的下磁极面与下磁极（4）的上磁极面的边缘均由多条弧线构成；所述上磁极（3）和下磁极（4）的外周均围有线包（41）；所述上磁极（3）的下磁极面由顺次连接的第一弧线（21）、第二弧线（22）、第三弧线（23）、第四弧线（24）、第五弧线（25）、第六弧线（26）合围而成；线包（41）对应第六弧线（26）的部分做成直线部分（42），其中第六弧线（26）相对于直线部分（42）凹陷。
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