[发明专利]光配向膜及其制作方法、显示基板和显示装置有效
申请号: | 201510263313.0 | 申请日: | 2015-05-21 |
公开(公告)号: | CN104808395B | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 江亮亮;王永灿;尹傛俊;干泉;涂志中 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 赵天月 |
地址: | 230011 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种光配向膜及其制作方法、显示基板和显示装置,本发明提供的光配向膜的制作方法,包括在基板上形成光配向材料膜层;利用干涉光照射所述光配向材料膜层,去除所述光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分,以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜。本发明提供的光配向膜的制作方法可以解决现有技术中制作光配向膜工艺较为复杂的问题。 | ||
搜索关键词: | 及其 制作方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】:
一种光配向膜的制备方法,其特征在于,包括:在基板上形成光配向材料膜层;利用干涉光照射所述光配向材料膜层,去除所述光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分,以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜。
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