[发明专利]用于化学气相沉积工艺的设备

摘要

本发明提供了一种用于化学气相沉积工艺的设备，该设备包括：公共腔、多个工艺腔、控制阀、真空泵及氮气系统，其中，公共腔上连接有多个工艺腔，用于为多个工艺腔输送工件，且工艺腔通过控制阀与真空泵及氮气系统连通。该技术方案，利用控制阀直接将氮气系统与工艺腔相连通，从而不需要公共腔便可将工艺腔内恢复成大气状态，一方面工艺腔内的残留物质不能进入到公共腔，从而确保了公共腔及其它工艺腔的整洁度，进而确保了其它工艺腔内的工件的质量，另一方面，减少了清洗公共腔及将公共腔抽成真空的环节，从而提高了工件的加工效率。

主权项

1.一种用于化学气相沉积工艺的设备，其特征在于，包括：公共腔、多个工艺腔、控制阀、真空泵及氮气系统，其中，所述公共腔与多个所述工艺腔连接，用于为多个所述工艺腔输送工件，且所述工艺腔通过所述控制阀与所述真空泵及所述氮气系统连通；所述控制阀包括：本体，所述本体上设置有与所述真空泵连通的第一接口、与所述工艺腔连通的第二接口及与所述氮气系统连通的第三接口，且所述第一接口与所述第二接口及所述第三接口相互连通；其中，所述第三接口的侧壁上设置有截流件，用于调节进入所述第三接口的氮气的流量。