[发明专利]通过内部气相沉积工艺制造光学预制件的方法和装置及基管组件有效
| 申请号： | 201510268260.1 | 申请日： | 2015-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN105084714B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | I·米莉瑟维克;J·A·哈特苏克;M·J·N·范·斯特劳伦;G·克拉比希斯;E·A·库伊佩斯 | 申请（专利权）人： | 德拉克通信科技公司 |
| 主分类号： | C03B8/04 | 分类号： | C03B8/04 |
| 代理公司： | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及通过内部气相沉积工艺制造光学预制件的方法和装置及基管组件。用于通过内部气相沉积工艺来制造光学预制件的该装置包括能量源和中空基管，该中空基管具有供给侧和排出侧，该能量源能够沿着中空基管的长度移动，该装置还包括连接至中空基管的排出侧的延长管，中空基管延伸至延长管的内部，以及延长管的内径比中空基管的外径大了至少0.5毫米。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 内部 沉积 工艺 制造 光学 预制件 方法 装置 组件 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过内部气相沉积工艺来制造光学预制件的装置，所述装置包括能量源和中空基管，所述中空基管具有供给侧和排出侧，所述能量源能够沿着所述中空基管的长度移动，所述装置还包括以大致气密的方式连接至所述中空基管的所述排出侧的延长管，其中所述中空基管延伸至所述延长管的内部，由此定义所述中空基管和所述延长管之间的重叠区域，以及/n所述延长管在所述重叠区域处的内径比所述中空基管在所述重叠区域处的外径大了至少0.5毫米，/n其特征在于，/n所述延长管包括中空插入管，其中所述中空插入管的内径大于或等于所述中空基管的内径。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德拉克通信科技公司，未经德拉克通信科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510268260.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
