[发明专利]硅片边缘保护装置和光刻机有效
| 申请号： | 201510270032.8 | 申请日： | 2015-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN106292192B | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 胡月;黄静莉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种边缘保护装置和光刻机，该边缘保护装置包括：旋转机构，安装在所述光刻机上，且所述旋转机构的旋转中心与光刻机的物镜轴线重合；移动机构，与所述旋转机构的边缘连接，用于调节涂覆保护机构的位置；以及涂覆保护机构，安装在所述移动机构底部，位置与硅片边缘对应，且所述涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触。本发明设置有移动机构调节涂覆保护机构的位置，一套硅片边缘保护装置即可实现所有大小的硅片边缘保护；涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触，不会发生硅片碰撞，保证硅片质量，降低硅片的报废率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 边缘 保护装置 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机，其特征在于，包括工件台，物镜，边缘保护装置；所述边缘保护装置包括旋转机构，移动机构以及涂覆保护机构；所述旋转机构的旋转中心与所述物镜的轴线重合，并带动所述移动机构和所述涂覆保护机构做旋转运动；所述移动机构与所述旋转机构连接，用于调节所述涂覆保护机构移动至或离开涂覆位置；所述涂覆保护机构安装在所述移动机构底部，位置与硅片边缘对应，且所述涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触；所述移动机构与所述旋转机构的边缘连接，包括：连接装置和移动气缸，所述连接装置与所述旋转机构连接，所述移动气缸的固定端安装在所述连接装置底部，活动端与所述涂覆保护机构连接，所述连接装置底部设置有与移动气缸对应的水平移动轨道，所述连接装置与移动气缸之间由锁紧装置锁紧固定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510270032.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
