[发明专利]一种具有透明基底的薄膜的测量装置及测量方法有效
申请号: | 201510270033.2 | 申请日: | 2015-05-24 |
公开(公告)号: | CN106198568B | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 刘昊;周钰颖 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种具有透明基底的薄膜的测量装置,依次包括:形成光路连接的光源、准直镜头、滤波器、起偏器、分光元件、物镜、具有透明基底的薄膜,所述具有透明基底的薄膜位于承载台上,所述分光元件依次连接有面阵探测器与处理器,根据透明基底厚度、物镜视场大小、照明视场大小并根据相关计算公式计算出相应直径型号的遮挡光阑来遮挡在小角度范围内受到透明基底反射的干扰光,将剩余区域的反射光形成图像发送至数据处理器,计算出薄膜的相关数据。因此这种装置可根据不同的薄膜来设计不同的遮挡光阑,具有操作简单,测量精准的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 透明 基底 薄膜 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有透明基底的薄膜的测量装置,依次包括:形成光路连接的光源、准直镜头、滤波器、起偏器、分光元件、物镜以及具有透明基底的薄膜,所述具有透明基底的薄膜放置于承载台上,所述分光元件依次连接有面阵探测器与处理器,其特征在于,还包括遮挡光阑,用于去除在测量过程中因所述透明基底而产生的对测量造成干扰的反射光,所述遮挡光阑设置在所述物镜后焦面处,或者所述遮挡光阑在所述光源的照明光路瞳面共轭位置。
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