[发明专利]吸振装置及吸振方法、光刻机系统有效
| 申请号： | 201510270064.8 | 申请日： | 2015-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN106292193B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 季采云;孙见奇 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种吸振装置及吸振方法，包括壳体、铁芯，所述壳体内设置有相互贯通的第一腔室和第二腔室，第一腔室内设置有磁流变弹性体，位于所述第二腔室的铁芯缠绕有励磁线圈。本发明通过励磁线圈的电流的大小控制所述磁流变弹性体的刚度变强或变弱，以保证吸振装置的振动频率与振动源的振动频率相一致，降低振动敏感位置的振动幅值。本发明还公开了一种光刻机系统，依次包括地基、基础框架、一级减振器、主基板、法兰，二级减振器、光刻投影物镜以及设置于光刻投影物镜的模态节点位置的吸振装置，该光刻机系统能够对光刻投影物镜产生的振动进行吸振，特别是对绕水平方向的吸振效果较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种吸振装置，其特征在于，包括采用具有导磁性的硅钢制作的壳体(203)，所述壳体(203)内设置有相互贯通的第一腔室(203a)和第二腔室(203b)，所述第一腔室(203a)内设置有磁流变弹性体(207)，还包括贯穿于所述磁流变弹性体(207)、第二腔室(203b)、壳体(203)的具有导磁性的铁芯(205)，所述铁芯(205)的两端露出于所述壳体(203)之外，位于所述第二腔室(203b)的铁芯(205)缠绕有励磁线圈(204)。
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