[发明专利]基于溶胶射流靶的LPP‑EUV光源系统

摘要

一种基于溶胶射流靶的LPP‑EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射‑循环装置、LPP‑EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射‑循环装置而在LPP‑EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵浦激光源输出泵浦激光，进入LPP‑EUV发生装置后作用于溶胶射流靶。本发明基于溶胶射流靶增强LPP‑EUV光源的可靠性与稳定性，为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障。

主权项

一种基于溶胶射流靶的LPP‑EUV光源系统，其特征在于，包括：溶胶发生装置(1)，用于产生溶胶(M1)；溶胶喷射‑循环装置(2)，用于形成溶胶射流靶(M2)；泵浦激光源(3)，用于输出泵浦激光(L1)；LPP‑EUV发生装置(4)，为泵浦激光(L1)作用于溶胶射流靶(M2)提供反应环境；所述的溶胶发生装置(1)包括：喷嘴(101)、具有吸入口(G1)的接受室(102)、收缩管(103)、混合室(104)和扩散管(105)；所述的喷嘴(101)置于接受室(102)的一端内，该接受室(102)的另一端经所述的收缩管(103)与所述的混合室(104)相连，该混合室与所述的扩散管(105)相连；流体介质(C1)通过喷嘴(101)进入接受室(102)，由于文丘里效应使得靶材纳米颗粒(C2)经吸入口(G1)进入接受室(102)，流体介质(C1)与靶材纳米颗粒(C2)经收缩管(103)进入混合室(104)，两者在混合室(104)混合后通过扩散管(105)的输出口(G2)输出溶胶(M1)；所述的溶胶喷射‑循环装置(2)包括：缓存池(201)、第一循环动力泵(202a)和溶胶喷射器(203a)、第一输送管道(204a)、第二循环动力泵(202b)、溶胶收集器(203b)和第二输送管道(204b)；所述的LPP‑EUV发生装置(4)包括：侧壁上设置有光学窗片(401)的真空室(402)，使泵浦激光(L1)经该光学窗片(401)进入真空室(402)，在真空室(402)内、沿泵浦激光(L1)的传播方向还设置有透镜(403)；所述的溶胶喷射器(203a)和溶胶收集器(203b)设置在该真空室(402)内，所述的缓存池(201)通过所述的第一输送管道(204a)经所述的第一循环动力泵(202a)与所述的溶胶喷射器(203a)的输入端相连，所述的溶胶收集器(203b)的输出端通过所述的第二输送管道(204b)经所述的第二循环动力泵(202b)与所述的缓存池(201)相连；所述的溶胶(M1)进入缓存池(201)后，在第一循环动力泵(202a)的作用下通过第一输送管道(204a)，经由溶胶喷射器(203a)在真空室(402)内形成溶胶射流靶(M2)，进入溶胶收集器(203b)后又在第二循环动力泵(202b)的作用下通过第二输送管道(204b)，终而返回至缓存池(201)；所述的泵浦激光(L1)经凸透镜(403)聚焦至溶胶射流靶(M2)产生EUV辐射(L2)。