[发明专利]一种二氧化钒低温热致变色薄膜的制备方法有效
申请号: | 201510270578.3 | 申请日: | 2015-05-26 |
公开(公告)号: | CN104805411B | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 陈支勇;潘清涛;栾晓波;程金树;袁坚;王芮;秦伟 | 申请(专利权)人: | 河北省沙河玻璃技术研究院 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58 |
代理公司: | 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙)13115 | 代理人: | 刘闻铎 |
地址: | 054100 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种二氧化钒低温热致变色薄膜的制备方法,该方法将基片进行清洗装片后,通过预先沉积一层五氧化二钒作为诱导层,然后在其上通过固‑液诱导生长混合晶向的金红石二氧化钛缓冲层,诱导生长后底层的五氧化二钒移动至顶层,形成结晶的金红石相二氧化钛和五氧化二钒的混合薄膜,再通过还原气氛将顶层的五氧化二钒还原为二氧化钒,最终得到基底/金红石二氧化钛/金红石二氧化钒热至变色薄膜。所得薄膜不仅相变温度接近室温,而且有足够的可见光透过率和红外开关效率,能够满足建筑智能窗、汽车玻璃等场合实际应用的需要。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化 温热 变色 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种二氧化钒低温热致变色薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下操作步骤:A.将反应沉积腔抽至本底真空,再分别通入氧气和氩气,氧分压为0‑90%,使工作压力为0.1‑3.0Pa,基片温度为20‑25℃,以高纯金属钒为靶材,采用直流反应磁控溅射技术,在衬底基片上生长五氧化二钒层;B.将衬底升温至400‑500℃,同时继续通入氧气和氩气,氧分压为10%‑90%,使工作压力为0.1‑1.0Pa,以高纯金属钛为靶材,采用直流反应磁控溅射技术,诱导溅射生长金红石二氧化钛层;C.在还原气氛或惰性气氛环境中,进行退火,即得到基片/金红石二氧化钛/金红石二氧化钒热致变色薄膜。
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