[发明专利]一种磺酸基酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜材料的制备方法有效
| 申请号： | 201510271089.X | 申请日： | 2015-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN104891822B | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 贺春英;蒋恩晶;陈博文;王钊;赵呈;李宗乐 | 申请（专利权）人： | 黑龙江大学 |
| 主分类号： | C03C17/22 | 分类号： | C03C17/22 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所23109 | 代理人： | 侯静 |
| 地址： | 150080 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种磺酸基酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜材料及制备方法，本发明属于非线性光学领域，它为了解决现有非线性光学薄膜材料的三阶非线性光学性能较差的问题。该磺酸基酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜材料由酞菁化合物和氧化石墨烯的水溶液以静电自组装的方法成膜。制备方法一、石英基片交替置于PDDA溶液和PSS溶液中，制备带有负电荷的基片；二、基片依次放入PDDA溶液、α‑SLPcNi水溶液、PDDA溶液和氧化石墨烯水溶液中；四、重复多次步骤二，得到复合薄膜材料。本发明选用中心金属为镍的四‑α‑(4‑磺酸苯氧基)酞菁镍，复合薄膜材料的三阶非线性吸收系数β为4.16×10‑5m/W，具有良好的三阶非线性光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磺酸基酞菁镍 氧化 石墨 复合 薄膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种磺酸基酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜材料的制备方法，其特征在于是按下列步骤实现：一、将预处理后的石英基片置于质量浓度为10％的PDDA溶液中浸泡8～10min，取出后用蒸馏水洗净，N2吹干后再浸入到质量浓度为10％的PSS溶液中8～10min，取出后用蒸馏水洗净，用N2吹干，完成一次PDDA‑PSS浸泡过程，重复PDDA‑PSS浸泡过程三次，得到带有负电荷的基片；二、将步骤一得到的带有负电荷的基片放入质量浓度为10％的PDDA溶液中浸泡8～10min，取出后用蒸馏水洗净，N2吹干后浸入到四‑α‑(4‑磺酸苯氧基)酞菁镍水溶液中8～10min，取出后用蒸馏水洗净，N2吹干后再浸入到质量浓度为10％的PDDA溶液中浸泡8～10min，取出后用蒸馏水洗净，用N2吹干后最后浸入到氧化石墨烯水溶液中8～10min，取出后用蒸馏水洗净，用N2吹干，完成单对层四‑α‑(4‑磺酸苯氧基)酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜组装；三、重复多次步骤二的单对层四‑α‑(4‑磺酸苯氧基)酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜组装过程，得到磺酸基酞菁镍‑氧化石墨烯复合薄膜材料。
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