[发明专利]一种钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510272038.9 申请日: 2015-05-25
公开(公告)号: CN104947192B 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 刘正太;沈大伟;李明颖;杨海峰;姚岐;刘吉山;樊聪聪 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: C30B29/24 分类号: C30B29/24;C30B25/02
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料的制备方法,包括如下步骤:S1:提供一钙钛矿型衬底;S2:对所述衬底进行清洗处理;S3:对所述衬底进行退火处理;S4:在氧化物分子束外延系统中采用Ir单质靶蒸发源、Sr单质靶蒸发源及氧源,在所述衬底表面外延生长钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料。本发明利用氧化物分子束外延技术,通过超高真空设备硬件、单质蒸发源的选择、稳定的蒸发源束流控制、衬底的选取、衬底的处理、薄膜合成参数的稳定控制,制备得到高质量的钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料。该单晶薄膜相比体材料拥有很大的优势,具有稳定态的钙钛矿型结构,外延薄膜表面是天然的平整解理面,有利于实现电子结构的测试,样品表面的高洁净度使测试更加顺利进行。
搜索关键词: 一种 钙钛矿型 sriro sub 薄膜 材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:提供一钙钛矿型衬底;S2:对所述衬底进行清洗处理;S3:对所述衬底进行退火处理;S4:在氧化物分子束外延系统中采用Ir单质靶蒸发源、Sr单质靶蒸发源及氧源,在所述衬底表面外延生长钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料,所述衬底温度为500~600℃;外延生长钙钛矿型SrIrO3单晶薄膜材料时,Sr与Ir的单质束流比大于1。
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