[发明专利]一种熔石英表面处理的装置及方法有效
| 申请号： | 201510275557.0 | 申请日： | 2015-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN104986967B | 公开（公告）日： | 2017-07-25 |
| 发明（设计）人： | 刘颖;蒋晓龙;刘正坤;邱克强;徐向东;洪义麟;付绍军 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | C03C19/00 | 分类号： | C03C19/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种熔石英表面处理的装置及方法，所述熔石英表面处理的装置包括具有反应腔的壳体；所述壳体顶部中心位置设置有等离子体发生单元；所述壳体底部中心位置设置有样品台；所述样品台中心位置设置有隔离单元，所述隔离单元包括防护膜和隔离罩；所述防护膜平铺在所述样品台和待处理熔石英之间；所述隔离罩放置在防护膜上待处理熔石英周围。本发明提供的熔石英表面处理的装置能够将待处理的熔石英与周围隔离，避免来自装置壳体和样品台的金属溅射污染；同时，通过两次等离子体刻蚀，能够实现去除熔石英的亚表面损伤层，得到具有较好表面粗糙度的熔石英。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石英 表面 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种熔石英表面处理的装置，其特征在于，包括：具有反应腔的壳体；所述壳体顶部中心位置设置有等离子体发生单元；所述壳体底部中心位置设置有样品台；所述样品台中心位置设置有隔离单元，所述隔离单元包括防护膜和隔离罩；所述防护膜平铺在所述样品台和待处理熔石英之间；所述隔离罩放置在防护膜上待处理熔石英周围。
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