[发明专利]无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法和数字激光直写系统在审
| 申请号： | 201510278066.1 | 申请日： | 2015-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN104865800A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 曲鲁杰;梅文辉;杜卫冲;宋素霜 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人： | 邹常友 |
| 地址： | 528400 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法，所述的无掩模光刻设备采用由UV激光或UV LED光源、DMD微反射镜器件和光学透镜组成的曝光成像系统，其特征在于：产生系列的脉冲同步信号，触发所述DMD微反射镜器件与所述UV激光或UV LED光源同步工作，所述脉冲同步信号的脉冲间隔取决于DMD微反射镜器件对图形的更换或刷新周期；一种数字式激光直写系统，包括上位机，负责向曝光成像系统输出数字点阵图案，以及系列的脉冲同步信号；一个或多个并排的曝光成像系统。本发明解决光刻设备各部分的同步控制问题，便于设计更为高效、合理的曝光和刷新时间，克服传统曝光机产能低、系统适应性弱的缺点。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩模 光刻 设备 同步 脉冲 曝光 方法 数字 激光 系统 | ||
【主权项】：
一种无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法，所述的无掩模光刻设备采用由UV激光或UV LED光源、DMD微反射镜器件和光学透镜组成的曝光成像系统，其特征在于：产生系列的脉冲同步信号，触发所述DMD微反射镜器件与所述UV激光或UV LED光源同步工作，所述脉冲同步信号的脉冲间隔取决于DMD微反射镜器件对图形的更换或刷新周期；具体为，当DMD微反射镜器件打开新一幅曝光图，UV激光或UV LED光源同步开启；当DMD微反射镜器件更换或刷新曝光图的过程中关闭UV激光或UV LED光源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山新诺科技股份有限公司，未经中山新诺科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510278066.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
