[发明专利]一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置有效
申请号: | 201510282237.8 | 申请日: | 2015-05-28 |
公开(公告)号: | CN105097941B | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 孔祥永;朱夏明;刘晓娣 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/423;H01L29/66;H01L21/28 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置,属于半导体技术领域。该薄膜晶体管包括:基板、以及形成于基板上的有源层、源极、栅极和漏极,有源层的两端分别与所述源极和所述漏极连接,栅极包括顶栅和底栅,顶栅包括顶栅顶部和与顶栅顶部连接的顶栅侧部,顶栅顶部和底栅在垂直于基板的方向上相对设置,有源层夹设于顶栅顶部和底栅之间,顶栅侧部从顶栅顶部朝向基板延伸,有源层的侧壁至少部分被顶栅侧部围绕,栅极、源极和漏极均采用非透明的导电材料制成。本发明实施例的薄膜晶体管可以防止有源层被光照射,进而提高薄膜晶体管的特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜晶体管 及其 制造 方法 阵列 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,包括:基板、以及形成于所述基板上的有源层、源极、栅极和漏极,所述有源层的两端分别与所述源极和所述漏极连接,其特征在于,所述栅极包括顶栅和底栅,所述顶栅包括顶栅顶部和与所述顶栅顶部连接的顶栅侧部,所述顶栅顶部和所述底栅在垂直于所述基板的方向上相对设置,所述有源层夹设于所述顶栅顶部和所述底栅之间,所述顶栅侧部从所述顶栅顶部朝向所述基板延伸,所述有源层的侧壁至少部分与所述源极和所述漏极不接触,所述有源层的未与所述源极和所述漏极接触的侧壁至少部分被所述顶栅侧部围绕,所述栅极、所述源极和所述漏极均采用非透明的导电材料制成。
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