[发明专利]一种双模式全偏振成像测偏方法

摘要

本发明涉及偏振成像领域，尤其涉及一种双模式全偏振成像测偏方法，包括采用快拍模式或分时模式对目标进行全偏振成像测偏：入射光经过沿入射光传播方向依次同轴放置的滤波片、第一改进型萨瓦偏光镜、半波片、第二改进型萨瓦偏光镜和偏振片后转化为四束平行的线偏振光，经成像得到入射光的第一干涉图，经解调后得到入射光的S0～3图像；沿偏振片所在的平面水平旋转偏振片90°，再经成像得到入射光的第二干涉图，将第一干涉图和第二干涉图相加得到消除串扰的目标的全分辨率S0图像，将第一干涉图和第二干涉图的差图像解调得到S1～3图像；偏振片的偏振化方向角为22.5°。本发明提供了一种可针对不同目标不同需求选择不同的全偏振成像模式的双模式测偏方法。

主权项

1.一种双模式全偏振成像测偏方法，其特征在于，包括采用快拍模式或分时模式对目标进行全偏振成像测偏，所述快拍模式的全偏振成像测偏方法为：第一目标光源发射的一束入射光经过沿入射光传播方向依次同轴放置的滤波片、第一改进型萨瓦偏光镜、半波片、第二改进型萨瓦偏光镜和偏振片后转化为四束平行的线偏振光，所述四束平行的线偏振光穿过同轴设置的透镜后成像于电荷耦合元件上，得到所述入射光的第一干涉图，经解调后得到所述入射光的S0～3图像；所述分时模式的全偏振成像测偏的方法为：第二目标光源发射的一束入射光经过沿入射光传播方向依次同轴放置的滤波片、第一改进型萨瓦偏光镜、半波片、第二改进型萨瓦偏光镜和偏振片后转化为四束平行的线偏振光，所述四束平行的线偏振光穿过同轴设置的透镜后成像于电荷耦合元件上，得到所述入射光的第一干涉图；然后沿所述偏振片所在的平面水平旋转所述偏振片90°，所述四束平行的线偏振光穿过同轴设置的透镜后再次成像于电荷耦合元件上，得到所述入射光的第二干涉图，将所述第一干涉图和第二干涉图相加得到消除串扰的目标的全分辨率S0图像，将所述第一干涉图和第二干涉图的差图像解调得到调制系数均衡而且消去串扰的S1～3图像；其中，所述偏振片的偏振化方向角为22.5°。