[发明专利]电连接结构及阵列基板有效

专利信息
申请号: 201510284428.8 申请日: 2015-05-29
公开(公告)号: CN106292043B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 廖金阅;刘家麟;戴延樘;吕宏哲 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种电连接结构,所述电连接结构包括电连接单元、位于所述电连接单元一侧的干涉层以及位于所述电连接单元远离所述干涉层的一侧并覆盖所述电连接单元的绝缘覆盖层,所述电连接单元包括金属层,所述干涉层靠近所述绝缘覆盖层的一侧对光线的反射率与所述金属层对光线的反射率相同。本发明还提供一种阵列基板。本发明由于设置了干涉层,能够降低反射至绝缘覆盖层的光线强度,使绝缘覆盖层不易被光线破坏,进而得到平坦的绝缘覆盖层。
搜索关键词: 连接 结构 阵列
【主权项】:
1.一种电连接结构,包括电连接单元、位于所述电连接单元一侧的干涉层以及位于所述电连接单元远离所述干涉层的一侧并覆盖所述电连接单元的绝缘覆盖层,所述电连接单元包括相互电性连接的连接垫与连接线,该连接垫与该连接线均为金属层,连接垫形成在所述干涉层上;电连接结构还包括绝缘层,所述绝缘层覆盖所述干涉层及所述连接垫,所述绝缘层对应所述连接垫的位置处开设有连接垫孔,所述连接线形成在所述绝缘层上且通过所述连接垫孔与所述连接垫电性连接;所述干涉层靠近所述绝缘覆盖层的一侧对光线的反射率与所述金属层对光线的反射率相同;同一光源出射的光线经所述绝缘覆盖层射向所述连接线,并经过所述绝缘层射向干涉层,射向所述连接线与所述干涉层的光线分别被所述连接线与所述干涉层反射至所述绝缘覆盖层,被所述连接线与所述干涉层反射的光线之间产生相互干涉,使得在对所述绝缘覆盖层曝光显影的过程中反射至所述绝缘覆盖层的光线强度降低,所述绝缘覆盖层的表面不会被反射光破坏,进而保持所述绝缘覆盖层的表面平坦。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510284428.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top