[发明专利]电连接结构及阵列基板有效
申请号: | 201510284428.8 | 申请日: | 2015-05-29 |
公开(公告)号: | CN106292043B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 廖金阅;刘家麟;戴延樘;吕宏哲 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种电连接结构,所述电连接结构包括电连接单元、位于所述电连接单元一侧的干涉层以及位于所述电连接单元远离所述干涉层的一侧并覆盖所述电连接单元的绝缘覆盖层,所述电连接单元包括金属层,所述干涉层靠近所述绝缘覆盖层的一侧对光线的反射率与所述金属层对光线的反射率相同。本发明还提供一种阵列基板。本发明由于设置了干涉层,能够降低反射至绝缘覆盖层的光线强度,使绝缘覆盖层不易被光线破坏,进而得到平坦的绝缘覆盖层。 | ||
搜索关键词: | 连接 结构 阵列 | ||
【主权项】:
1.一种电连接结构,包括电连接单元、位于所述电连接单元一侧的干涉层以及位于所述电连接单元远离所述干涉层的一侧并覆盖所述电连接单元的绝缘覆盖层,所述电连接单元包括相互电性连接的连接垫与连接线,该连接垫与该连接线均为金属层,连接垫形成在所述干涉层上;电连接结构还包括绝缘层,所述绝缘层覆盖所述干涉层及所述连接垫,所述绝缘层对应所述连接垫的位置处开设有连接垫孔,所述连接线形成在所述绝缘层上且通过所述连接垫孔与所述连接垫电性连接;所述干涉层靠近所述绝缘覆盖层的一侧对光线的反射率与所述金属层对光线的反射率相同;同一光源出射的光线经所述绝缘覆盖层射向所述连接线,并经过所述绝缘层射向干涉层,射向所述连接线与所述干涉层的光线分别被所述连接线与所述干涉层反射至所述绝缘覆盖层,被所述连接线与所述干涉层反射的光线之间产生相互干涉,使得在对所述绝缘覆盖层曝光显影的过程中反射至所述绝缘覆盖层的光线强度降低,所述绝缘覆盖层的表面不会被反射光破坏,进而保持所述绝缘覆盖层的表面平坦。
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