[发明专利]一种对比式抗干扰微动阶梯平面反射镜激光干涉仪及标定方法和测量方法

摘要

本发明涉及一种精密测试技术及仪器领域，特别涉及一种对比式抗干扰微动阶梯平面反射镜激光干涉仪及标定方法和测量方法，所述对比式抗干扰微动阶梯平面反射镜激光干涉仪，包括有激光源、微动阶梯平面反射镜、干涉测量光电探测器组、移动平面反射镜、分光镜组和微动平台，所述激光源向所述分光镜组射出z束激光束，还包括有反射测量光电探测器组，所述第二激光束组在由所述移动平面反射镜射向所述分光镜组后还形成有反射激光束组，所述反射激光束组的各激光束分别射向一个所述反射测量光电探测器。本申请的激光干涉仪，根据反射激光束组的强度确定激光干涉光束的干涉状态，如此实现抗环境干扰的目的。

主权项

一种用于对比式抗干扰微动阶梯平面反射镜激光干涉仪的标定方法，所述对比式抗干扰微动阶梯平面反射镜激光干涉仪，包括有激光源、微动阶梯平面反射镜、干涉测量光电探测器组、移动平面反射镜、分光镜组和微动平台，所述微动阶梯平面反射镜设置在所述微动平台上，所述激光源向所述分光镜组射出z束激光束，其中z为大于或者等于2的正整数，所述干涉测量光电探测器组包括有z个干涉测量光电探测器，每一个干涉测量光电探测器与一束激光束相对应，所述微动阶梯平面反射镜的反射面包括有z个反射平面，z个所述反射平面呈阶梯型布置，每一个反射平面与一束激光束相对应，各激光束经所述分光镜组后分为第一激光束组和第二激光束组，所述第一激光束组射向所述微动阶梯平面反射镜，经所述微动阶梯平面反射镜反射后再次射向所述分光镜组，再经所述分光镜组后射向所述干涉测量光电探测器组，所述第二激光束组射向所述移动平面反射镜，经所述移动平面反射镜反射后再次射向所述分光镜组，经所述分光镜组后相对应的与射向所述干涉测量光电探测器组的第一激光束组发生干涉，形成干涉激光束组，干涉激光束组的各干涉光束分别射向各自对应的所述干涉测量光电探测器，所述对比式抗干扰微动阶梯平面反射镜激光干涉仪还包括有反射测量光电探测器组，所述反射测量光电探测器组包括有z个反射测量光电探测器，所述第二激光束组在由所述移动平面反射镜射向所述分光镜组后还形成有反射激光束组，所述反射激光束组的各激光束分别对应的射向一个所述反射测量光电探测器，所述分光镜组包括有第一分光镜和第二分光镜，所述激光源射出的z束激光束先射到第一分光镜，经第一分光镜反射形成第一激光束组，经第一分光镜透射形成第二激光束组，第一激光束组射向所述微动阶梯平面反射镜，经反射后再次射向所述第一分光镜，然后再透射过所述第一分光镜，所述第二激光束组射向所述第二分光镜，经所述第二分光镜透射后射向所述移动平面反射镜，经所述移动平面反射镜反射后再射向所述第二分光镜，经所述第二分光镜透射后射向所述第一分光镜，并且与射向所述干涉测量光电探测器组的第一激光束组发生干涉，形成干涉激光束组后射向所述干涉测量光电探测器组，由所述移动平面反射镜射向所述第二分光镜的所述第二激光束组还被所述第二分光镜反射形成所述反射激光束组，其特征在于，包括下述步骤：步骤一、位置调整：调整好激光源、微动阶梯平面反射镜、分光镜组、干涉测量光电探测器组、反射测量光电探测器组、移动平面反射镜和微动平台的位置；步骤二、调整光路：启动所述激光源，进一步精确调整微动阶梯平面反射镜、分光镜组、干涉测量光电探测器组、反射测量光电探测器组、移动平面反射镜和微动平台的位置，使激光干涉仪的光路达到设计要求；步骤三、生成最强干涉数据库：选取干涉测量光电探测器组中的一个干涉测量光电探测器作为标定干涉测量光电探测器，选取反射测量光电探测器组中的一个反射测量光电探测器作为标定反射测量光电探测器，所述标定干涉测量光电探测器和所述标定反射测量光电探测器与所述激光源射出的同一束激光束相对应，在空气洁净的环境下控制所述微动平台移动，当射向所述标定干涉测量光电探测器的干涉光束为最强相长干涉时固定所述微动平台，记录此时标定反射测量光电探测器读数和标定干涉测量光电探测器读数，改变空气环境使所述标定反射测量光电探测器读数变化，同时记录若干个标定反射测量光电探测器读数以及对应的标定干涉测量光电探测器读数，得到最强干涉数据库。