[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201510289067.6 | 申请日: | 2015-05-29 |
公开(公告)号: | CN105296962B | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 千叶贵司;梅原隆人;长谷川雅之 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40;C30B25/14;C30B29/18 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种成膜装置。成膜装置包括:真空容器;以及旋转台,其设于该真空容器内。另外,成膜装置包括:凹部,其以能收纳所述基板的方式形成于所述旋转台的一面侧;以及载置部,其用于在该凹部内对基板的比周缘部靠中央的部位进行支承。成膜装置还包括:连通路径,其以在凹部的自凹部的中央看来位于与所述旋转台的中心相反的一侧的端部区域将所述旋转台的外侧的空间和所述凹部内的位于载置部的周围的空间相连通的方式形成于该凹部的壁部,以便将在因所述旋转台的旋转而产生的离心力的作用下在所述凹部内偏向于所述旋转台的外周侧的气体排出;以及排气口,其用于对其所述真空容器内进行真空排气。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置,其特征在于,该成膜装置包括:真空容器;旋转台,其设于该真空容器内;凹部,其以能收纳基板的方式形成于所述旋转台的一面侧;载置部,其用于在该凹部内对基板的比周缘部靠中央的部位进行支承;连通路径,其以在凹部的自凹部的中央看来位于与所述旋转台的中心相反的一侧的端部区域将所述旋转台的外侧的空间和所述凹部内的位于载置部的周围的空间相连通的方式形成于该凹部的壁部;以及排气口,其用于对其所述真空容器内进行真空排气,在将连结凹部的中心和旋转台的旋转中心的直线与旋转台的外周相交的点设为P时,所述凹部的端部区域是自凹部的中心相对于点P分别向左右形成各30度的张角的直线之间的区域。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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