[发明专利]硬掩模组合物和通过使用该硬掩模组合物形成图案的方法有效
申请号: | 201510292394.7 | 申请日: | 2015-06-01 |
公开(公告)号: | CN105319854B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 金尚元;申铉振;朴晟准 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F7/09 | 分类号: | G03F7/09 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 金拟粲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及硬掩模组合物和通过使用该硬掩模组合物形成图案的方法。所述硬掩模组合物可包括:溶剂;和包含约0.01原子%‑约40原子%氧的2维碳纳米结构体、或其2维碳纳米结构体前体。所述2维碳纳米结构体前体中的氧的含量可低于约0.01原子%或者大于约40原子%。所述硬掩模组合物可用于形成精细图案。 | ||
搜索关键词: | 模组 通过 使用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
硬掩模组合物,其包括:包含0.01原子%‑40原子%氧的2维碳纳米结构体、或其2维碳纳米结构体前体;和溶剂。
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