[发明专利]一种GR/WS2-AuNPs-WS2复合物分子印迹传感器的制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201510295458.9 申请日: 2015-06-02
公开(公告)号: CN104833767A 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 王宗花;卢冰;夏建飞;杨敏;张菲菲 申请(专利权)人: 青岛大学
主分类号: G01N31/10 分类号: G01N31/10;G01N27/30
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 赵妍
地址: 266071 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种GR/WS2-AuNPs-WS2复合物分子印迹传感器的制备方法,包括以下步骤:1)制备纳米片层过渡金属二硫化钨;2)制备AuNPs/WS2复合物;3)制备GR/WS2-AuNPs-WS2复合物;3)制备GR/WS2-AuNPs-WS2复合物修饰的电极;(4)用GR/WS2-AuNPs-WS2复合物作为修饰电极的基底,L-苯丙氨酸做模板分子,2-乙基-4-甲基咪唑做交联剂,甲基丙烯酸做功能单体,制备L-苯丙氨酸分子印迹传感器。本发明还提供了上述分子印迹传感器在检测和分离L-苯丙氨酸的应用。该GR/WS2-AuNPs-WS2复合物大大提高了传感器对L-苯丙氨酸检测的灵敏度,结合分子印迹优点,使制备的L-苯丙氨酸分子印迹传感器对L-苯丙氨酸具有高的灵敏度及好的选择性。
搜索关键词: 一种 gr ws sub aunps 复合物 分子 印迹 传感器 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
一种GR/WS2‑AuNPs‑WS2复合物分子印迹传感器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)取钨酸钠和硫代乙酰胺于二次水中混匀,然后于180~200℃反应,取出后冷却至室温,离心分离后洗涤,干燥,得纳米片层过渡金属二硫化钨;2)将步骤1)中的纳米片层过渡金属二硫化钨,以及氯金酸和硼氢化钠加入到二次水中混匀,得混合液;将氨水加入混合液中,振荡后加热,冷却至室温,静置,抽滤,取滤饼,真空冷冻干燥,得到一种附着有金纳米粒子的二硫化钨片层复合物,即AuNPs/WS2复合物;3)取步骤2)制得的复合物置于亚甲基甲酰胺溶液中,混合均匀,加入步骤1)中制得的二硫化钨混合,静置反应,得到WS2‑AuNPs‑WS2复合物;再加入石墨烯,混合均匀后加热,将得到的产物离心分离,洗涤,得GR/WS2‑AuNPs‑WS2复合物;4)取步骤3)得到的GR/WS2‑AuNPs‑WS2复合物溶于二次水中,得复合物的均匀分散液;取上述分散液均匀滴涂到玻碳电极表面,干燥,即得GR/WS2‑AuNPs‑WS2复合物修饰电极;5)制备L‑苯丙氨酸母液,依次加入甲基丙烯酸和2‑乙基‑4甲基咪唑,制得电聚合溶液;将GR/WS2‑AuNPs‑WS2复合物修饰电极置于电聚合溶液中,循环伏安法进行电聚合;将聚合后的电极置于0.5M NaOH溶液中,循环伏安法扫描将模板分子洗脱,得到基于GR/WS2‑AuNPs‑WS2复合物的L‑苯丙氨酸分子印迹传感器。
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