[发明专利]一种单片集成在高折射率衬底的亚波长金属光栅偏振片有效

专利信息
申请号: 201510295974.1 申请日: 2015-06-02
公开(公告)号: CN104880755B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 王瑞;李淘;邵秀梅;曹高奇;李雪;龚海梅 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 上海新天专利代理有限公司31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种单片集成在高折射率衬底的亚波长金属光栅偏振片,从上至下依次是亚波长金属光栅层,低折射率介质层和高折射率衬底。所述高折射率衬底的折射率在2.9至3.6之间,低折射率介质层的折射率在1.3至2.5之间,金属光栅周期100‑400纳米。通过在高折射率衬底和亚波长金属光栅之间插入一层低折射率介质层,能有效提高偏振片在红外波段的TM波透过率和消光比。亚波长金属光栅偏振片结构因其具有结构紧凑、易集成、偏振特性好、光谱较宽、透射率和消光比高等特点,可以减少光路原件,增加光学系统设计的灵活性,具有改进和取代传统光学元器件的潜力。
搜索关键词: 一种 单片 集成 折射率 衬底 波长 金属 光栅 偏振
【主权项】:
一种单片集成在高折射率衬底的亚波长金属光栅偏振片,由衬底(3)、低折射率介质层(2)和亚波长金属光栅层(1)构成,其特征在于:所述的亚波长金属光栅偏振片结构为:从衬底(3)自下而上依次是低折射率介质层(2)、亚波长金属光栅层(1);所述的低折射率介质层(2)的折射率在1.3至2.5之间,厚度H是50‑1000纳米,低折射率介质层(2)的材料采用SiO2、Si3N4或ZnS;所述的亚波长金属光栅(1)的周期p是100‑400纳米,厚度h是80‑200纳米,占空比w/p是0.4‑0.6,材料采用金、铝、银或铜。
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