[发明专利]一种硅烷化合物修饰SiO负极材料及其制备方法及应用有效
申请号: | 201510296490.9 | 申请日: | 2015-06-03 |
公开(公告)号: | CN104852050B | 公开(公告)日: | 2017-09-01 |
发明(设计)人: | 高云智;颜世银;马刊;王龙;尹鸽平 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | H01M4/60 | 分类号: | H01M4/60;H01M4/139 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司23206 | 代理人: | 高媛 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种硅烷化合物修饰SiO负极材料及其制备方法及应用,所述材料以SiO为基底,在其上修饰一层硅烷化合物,制备方法为一、将硅烷化合物水解,使与硅原子相连的偶联剂的化学键发生水解,生成低聚合度的硅氧烷,同时将SiO粉末于水‑乙醇混合液中进行超声处理;二、水解后的硅烷化合物与SiO混合,在惰性气体氛围下回流升温反应;三、将所述混合溶液进行离心、真空干燥。上述具有硅烷化物修饰层的SiO负极材料可与石墨混合用作锂离子电池负极材料。本发明通过在材料表面修饰一层有机硅化合物,解决由于硅材料在充放电过程中粉化导致的容量衰减快的问题。所采取的工艺路线方便、简单可,易于操作,而且所需材料成本较低,利于工厂大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅烷 化合物 修饰 sio 负极 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种硅烷化合物修饰SiO负极材料的制备方法,其特征在于所述方法步骤如下:一、将硅烷化合物水解20~60min,使与硅原子相连的偶联剂的化学键发生水解,生成低聚合度的硅氧烷,其中溶液pH为弱酸性;同时将SiO粉末于水‑乙醇混合液中进行超声处理;二、水解后的硅烷化合物与SiO混合,在惰性气体氛围下回流升温反应,控制硅烷化合物的质量分数为0.1~50%,反应温度为45~100℃,反应时间1~10h;三、将所述混合溶液进行离心、真空干燥,得到具有硅烷化合物修饰层结构的负极材料,控制真空干燥温度为45~85℃,真空干燥时间为6~10 h。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510296490.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。