[发明专利]液晶面板制造工艺中的ITO膜蚀刻液及其制备方法

摘要

本发明公布了一种液晶面板制造工艺中的ITO膜蚀刻液，包括以下重量百分比的组合物草酸3.5％～4.3％；丁酸0.2％～0.8％；正戊酸1.2％～2.6％；碘酸1.2％～2.6％；盐酸15％～20％；其余为纯水。本发明通过在原有工艺的基础上新加入了添加剂丁酸，正戊酸、碘酸以及盐酸，能有效降低ITO蚀刻液的表面张力，不仅能够产生渗透，浸润的作用，而且能够蚀刻铟锡氧化物半导体透明导电膜速率适中，反应稳定，使其在不影响产品质量的前提下提高产品的蚀刻效果，并使产品能在较低的环境温度下保存，避免了原有技术造成的蚀刻不干净，不能在低温下储存的缺点，本方法能适用于大规模生产。

主权项

一种液晶面板制造工艺中的ITO膜蚀刻液，其特征在于，包括以下重量百分比的组合物：草酸       3.5%；丁酸       0.2%；正戊酸     1.2%；碘酸       1.2%；盐酸       15%；其余为纯水。