[发明专利]激光图案化偏斜校正有效
| 申请号： | 201510303469.7 | 申请日： | 2015-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN105320399B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | V·P·埃里科;R·C·希普曼 | 申请（专利权）人： | 恩耐公司 |
| 主分类号： | B23K26/03 | 分类号： | B23K26/03;B23K26/08;B23K26/082 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种激光图案化对准方法提供一种用于执行以下步骤的方式：在激光图案化系统中将目标定位于工作距离处，使得所述目标上的基准标记定位于至少三个激光图案化系统相机的视图中；使用每一个激光图案化系统相机来查找所述目标上的基准标记的位置并将已查到位置的基准标记的位置数据发送到控制器；确定使预期基准标记位置与已发送的基准标记位置数据对准所必需的校正；以及使用已确定的校正来调节所述激光图案化系统。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 图案 偏斜 校正 | ||
【主权项】：
一种激光图案化对准方法，其包括：在激光图案化系统中将目标定位于工作距离处，使得所述目标上的基准标记定位于至少三个激光图案化系统相机的视图中；使用每一个激光图案化系统相机来查找所述目标上的基准标记的位置并将已查到位置的基准标记的位置数据发送到控制器；确定使预期基准标记位置与已发送的基准标记位置数据对准所必需的校正；以及使用已确定的校正来调节所述激光图案化系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩耐公司，未经恩耐公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510303469.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：液体浸入传感器
- 下一篇：半导体基板、半导体器件及半导体基板的制造方法
