[发明专利]一种在铌酸锂晶体上同时制备波导及光栅的方法有效
申请号: | 201510303847.1 | 申请日: | 2015-06-04 |
公开(公告)号: | CN104914502B | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 张爱玲;闫广拓;张凯亮 | 申请(专利权)人: | 天津理工大学 |
主分类号: | G02B6/136 | 分类号: | G02B6/136;G02B6/134;G02B6/124;G02F1/035 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300384 天津市西青*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种在铌酸锂基片上同时制备波导及光栅的方法,通过在铌酸锂中进行钛扩散或质子交换改变铌酸锂的折射率,在铌酸锂基片上实现波导及光栅一体化制备。本发明的优点是:该制备方法简单,易于实现,制备的波导光栅精度较高,波导光栅可一次成型,实验操作方便,光栅结构和周期可根据需要做相应的调整,并且利用该方法制备波导光栅成本低廉,有着广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 铌酸锂 晶体 同时 制备 波导 光栅 方法 | ||
【主权项】:
1.一种利用钛扩散法在铌酸锂基片上同时制备波导及光栅的方法,其特征在于步骤如下:(1)依次用浓度不小于99.7v%的酒精和丙酮清洗铌酸锂基片后,将铌酸锂基片放在温度为120‑180℃的加热板上烘烤2‑5min;(2)对清洗干净的铌酸锂基片进行匀胶,在铌酸锂基片表面附着一层光刻胶,光刻胶的厚度为100‑300nm;(3)利用电子束蚀刻系统(EBL)和一体化掩膜板对上述铌酸锂基片进行曝光,在显影剂中对光刻胶进行显影,然后将铌酸锂基片放置在温度为110℃的加热板上烘烤2‑4min,固化光刻胶,在铌酸锂基片表面的光刻胶形成波导光栅一体化掩模,制备的掩模结构为矩形结构、正弦形结构、三角形结构或锯齿形结构,掩膜结构集波导掩膜结构和光栅掩膜结构于一体,且波导传输方向和光栅传输方向一致,波导掩模结构与光栅掩模结构具有重叠部分或无缝相邻;(4)将步骤(3)中得到的铌酸锂基片表面利用溅射法制备一层厚度为60‑100nm的钛膜,然后放入浓度不小于99.5v%的丙酮溶液中,在铌酸锂基片上形成波导光栅结构的钛条;(5)将步骤(4)得到的带有钛条结构的铌酸锂基片放入高温扩散炉中进行钛扩散,扩散温度为980‑1150℃,扩散时间为6‑10h,在铌酸锂基片上形成布拉格波导光栅结构。
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