[发明专利]气体处理装置及该装置的控制方法

摘要

本发明提供一种气体处理装置及该装置的控制方法，该气体处理装置设置有环形过滤层，环形过滤层在储液部内循环转动，气体通过环形过滤层后得到处理后的气体，通过将附着物脱离装置独立于储液部设置，能够将环形过滤层的附着物分离在储液部之外，避免大量的附着物随过滤层回到储液部，解决了现有技术中对过滤层清洁后造成二次污染的问题，减轻了对过滤层的二次污染，提高了气体处理质量。本发明提供的气体处理装置的控制方法，启动所述驱动装置，控制所述环形过滤层的迎风面从所述储液部向所述附着物脱离装置的方向转动。通过该控制方法能够优先将附着物从过滤层上脱离，能够减轻储液部对过滤层的二次污染。本发明还提供另一种该气体处理装置的控制方法，通过控制过滤层的转速即可调节待处理气体的湿度。

主权项

1.一种气体处理装置，包括：气体通道，供待处理的气体流通；环形过滤层(3)，设置在所述气体通道中，可回转运动；储液部(8)，所述储液部(8)用于存储对所述环形过滤层(3)处理的液体，所述环形过滤层(3)经由所述储液部(8)内存储的液体通过；其特征在于，还包括：附着物脱离装置，独立于所述储液部(8)设置，以使附着在所述环形过滤层(3)的附着物脱离在所述储液部(8)之外；所述附着物脱离装置包括对环形过滤层(3)挤压的挤压装置(7)，所述挤压装置(7)对环形过滤层(3)挤压以使附着在所述环形过滤层(3)的附着物脱离；所述气体处理装置包括：第一转轴(1)和第二转轴(4)，分别设在环形过滤层(3)的第一端和第二端；所述环形过滤层(3)的第一端设置在所述储液部(8)内；所述环形过滤层(3)的第二端设置在所述储液部(8)的外部；所述挤压装置(7)包括主轴，所述主轴与对应于所述环形过滤层(3)的第二端设置，与所述第二转轴(4)挤压所述环形过滤层(3)以使所述附着物脱离；所述储液部(8)底部还设有将所述储液部(8)内的液体排出的排出阀。