[发明专利]具有高度耐划伤性的光学元件在审
申请号: | 201510309009.5 | 申请日: | 2015-06-08 |
公开(公告)号: | CN105301675A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 德克·阿皮茨;马滕·沃尔瑟;克里斯汀·海茵 | 申请(专利权)人: | 肖特股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/111;G02B1/115;G02B1/14 |
代理公司: | 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 | 代理人: | 赵飞;郭红丽 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的是改善硬质抗反射涂层的耐刮伤强度。对此提供一种光学元件(1),其具有在可见光谱范围中透明的衬底(10),以及在该衬底(10)上沉积的具有多层的抗反射涂层(2),该抗反射涂层交替地包括具有第一折射率的层和具有第二、较高折射率的层,其中具有较高折射率的层包含氮化物或氮氧化物,并且具有第一折射率的层包含硅的氧化物和至少一种其他元素,其中在具有第一折射率的层中硅的摩尔分数超过一种或多种其他元素的摩尔分数,并且多层抗反射涂层的最上层是具有第一折射率的层,并且其中在抗反射涂层上布置有链式的含氟有机分子层(3),其中该分子在端侧结合到光学元件的表面上。 | ||
搜索关键词: | 具有 高度 划伤 光学 元件 | ||
【主权项】:
一种具有高度耐划伤性的光学元件(1),其具有在可见光谱范围中透明的衬底(10)以及在所述衬底(10)上沉积的多层抗反射涂层(2),所述多层抗反射涂层包括具有第一折射率的层和具有第二、较高折射率的层的交替层,其中具有较高折射率的层包含氮化物或氮氧化物,并且具有第一折射率的层包含硅和至少一种其他元素的氧化物,并且其中在具有第一折射率的层中,与其他元素的摩尔分数相比,硅的摩尔分数占主导,并且其中所述多层抗反射涂层的最上层是具有第一折射率的层,并且其中在所述多层抗反射涂层上布置有链式的含氟有机分子层(3),其中分子在端侧结合到所述光学元件的表面上,优选结合到所述多层抗反射涂层(2)的最上层(27)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肖特股份有限公司,未经肖特股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510309009.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。