[发明专利]一种光刻版图OPC方法有效
申请号: | 201510309042.8 | 申请日: | 2015-06-07 |
公开(公告)号: | CN104865788B | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 金晓亮;钟政;袁春雨 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种光刻版图OPC方法,通过网格采样的方式提取了光刻版图的轮廓,同时使用网格对光刻版图的轮廓线进行分段,并利用采样网格的多个格点的向量提取了每段轮廓线段的修正参考点向量,由此提高了提取光刻版图的特征向量时的准确性,优化了后续OPC过程的初始值,减小了图像特征提取误差对OPC掩膜版准确性的影响,提高了光刻版图OPC效率,使得最终在硅片上形成的图像失真更小。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 版图 opc 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光刻版图OPC方法,其特征在于,包括:建立覆盖待OPC的光刻版图的整个区域的采样网格,所述采样网格的格点间隔根据光刻版图的工艺设计规则定义;对所述光刻版图进行格点处卷积,获得所述光刻版图的边缘轮廓图像,每个格点处的卷积范围覆盖以格点为中心的对称区域,且进行格点处卷积时,选取中心轴对称的二维函数做卷积核;建立直角坐标系,生成每个格点在所述直角坐标系中的向量;以采样网格对所述边缘轮廓图像的轮廓线进行分段,并根据与每段轮廓线段相邻的多个格点的向量生成每段轮廓线段的修正参考点向量;以所述每段轮廓线段的修正参考点向量为参考依据,对所述边缘轮廓图像进行基于规则的OPC处理和/或基于模型的OPC处理,获得OPC版图。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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