[发明专利]阵列基板及其修复方法、测试方法、制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201510309305.5 申请日: 2015-06-04
公开(公告)号: CN104851404B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 冯伟 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 林桐苒;曲鹏
地址: 230011 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其修复方法、测试方法、制作方法、显示装置,该阵列基板包括:基底、形成在所述基底上的栅线图形和数据线图形,以及形成在所述栅线图形和所述数据线图形之间的栅绝缘层图形,还包括:与所述栅线图形同层形成的备用线图形;所述备用线图形包括多条平行于所述栅线图形中的栅线的备用线,各条备用线分布于所述栅线图形和数据线图形限定的多行像素位置处,并与所述数据线图形中的各条数据线存在垂直交叠区域。本发明提供的阵列基板及其修复方法,可以在阵列基板出现数据线断路缺陷时快速的完成对该缺陷的修复。且修复工艺简单,易于实现。
搜索关键词: 阵列 及其 修复 方法 测试 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括显示区域和边框区域,所述显示区域包括:基底、形成在所述基底上的栅线图形和数据线图形,以及形成在所述栅线图形和所述数据线图形之间的栅绝缘层图形,其特征在于,还包括:与所述栅线图形同层形成的备用线图形,形成在所述栅绝缘层图形上的像素电极图形,所述像素电极图形包括对应于各个像素的像素电极,形成在所述像素电极图形上方的钝化层图形以及形成在所述钝化层图形上方的公共电极图形;所述备用线图形包括多条平行于所述栅线图形中的栅线的备用线,每条备用线分布于所述栅线图形和数据线图形所限定的多行像素位置处,并与位于该备用线上方的各个像素电极存在垂直交叠区域,所述钝化层图形在所述垂直交叠区域内形成有定位孔,所述定位孔用于对像素进行测试时,使所述定位孔处的像素电极和像素电极下方的备用线相连;所述备用线图形中的每条备用线从显示区域延伸至所述阵列基板的边框区域,并在边框区域暴露;还包括形成在所述钝化层图形上方的孤岛电极图形,所述孤岛电极图形中的各个孤岛电极与所述公共电极图形中的公共电极隔离,并通过所述钝化层图形中的定位孔与所述像素电极图形中的像素电极相连。
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