[发明专利]闪烁体的表面处理方法

摘要

本发明公开了一种闪烁体的表面处理方法，用于解决现有闪烁体时间分辨能力差的技术问题。技术方案是将配制好聚苯乙烯微球-乙醇混合溶液滴到经过处理的单晶硅片上，待聚苯乙烯微球-乙醇混合溶液在单晶硅片上充分展开，并使水分完全挥发，将附着有聚苯乙烯微球的单晶硅片放入去离子水中，在分子力作用下聚苯乙烯微球自然成六角形排布。利用闪烁体将漂浮在去离子水表面的聚苯乙烯微球阵列轻轻捞起，待水分自然蒸发后聚苯乙烯微球阵列即附着在闪烁体表面，在闪烁体表面附着的聚苯乙烯微球阵列上制作一层保护层，使得保护层能够与微球阵列共形。本发明通过自组装方法在闪烁体表面制备聚苯乙烯微球阵列光子晶体结构，提高了闪烁体的时间分辨能力。

主权项

一种闪烁体的表面处理方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一、取质量分数为2～2.5％、直径为450～500nm的聚苯乙烯微球溶液和无水乙醇，按照体积比1:0.1～1:1.0比例混合形成聚苯乙烯微球‑乙醇混合溶液；步骤二、将配制好的聚苯乙烯微球‑乙醇混合溶液滴到经过5％的十二烷甲基硫酸钠溶液中9～10小时浸泡后的单晶硅片上，等待聚苯乙烯微球‑乙醇溶液在单晶硅片上充分展开，并使水分完全挥发；步骤三、把附着聚苯乙烯微球的单晶硅片缓慢放入去离子水中，这时聚苯乙烯微球漂浮在水面上，并自然形成六角阵列排布；步骤四、将闪烁体轻轻放入水中，利用闪烁体一个端面将去离子水表面漂浮的聚苯乙烯微球阵列捞起，待水分自然蒸发后，闪烁体表面附着的聚苯乙烯微球阵列即形成光子晶体结构；步骤五、采用原子层沉积，在闪烁体表面附着的聚苯乙烯微球光子晶体上沉积保护层，沉积保护层时沉积室的温度为60摄氏度。