[发明专利]利用胶乳液制备有机功能材料图案的方法及其应用在审
申请号: | 201510314343.X | 申请日: | 2015-06-10 |
公开(公告)号: | CN105047818A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 张凯;王文冲;付群;吴明红;雷勇 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种利用胶乳液制备有机功能材料图案的方法和应用,其包括对基底进行修饰处理,在基底上引入有机材料预图案,将基底浸入含有有机材料的乳液中,通过亲疏水原理,使其形成有机材料图案。本发明图案化方法发生在胶乳液里,避免了光刻技术等损害材料功能的不利环境,因此可以有效地保护材料的功能性,不需要真空环境,而且过程无需加热,解决了有机材料受热分解等问题,实现了一种具有制备高分辨率、大面积、低成本的有机功能材料图案制备工艺,本发明工艺可兼容光刻技术,具有产业化应用前景。本发明方法提供了有机半导体图案化的另一种途径。 | ||
搜索关键词: | 利用 胶乳 制备 有机 功能 材料 图案 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种利用胶乳液制备有机功能材料图案的方法,其特征在于,包括如下步骤:a. 将经过洁净处理后的基底表面上修饰生成一层疏水物质或亲水物质,然后对基底表面依次进行清洗、干燥和烘烤,使基底表面上附着的疏水物质液膜或亲水物质液膜进行固化,制备得到疏水性基底或亲水性基底;b. 对在经过所述步骤a中进行修饰得到的基底表面进行图案化处理,并沉积一层有利于有机功能材料沉积的吸附材料层,在基底表面形成图案化的吸附区,吸附材料层采用与基底有不同表面能的材料制备而成,从而在基底上引入吸附材料层预图案;c. 采用不互溶的极性不同的两种物质制备胶乳液,并将有机机功能材料溶于胶乳液中,有机功能材料仅能溶解于其中的一种物质中且不溶于其中的另一种物质;d. 当采用的有机功能材料与基底的作用较弱,而导致有机功能材料分子在所述步骤b中制备的吸附区外的基底表面上无法形核凝固时,将具有在所述步骤b中制备的吸附材料层预图案的基片浸入在所述步骤c中制备的胶乳液中,基片浸入胶乳液静置时间长度根据所需厚度进行控制,浸入时间结束后,再将基片从胶乳液中取出,然后待基片表面附着的溶液挥发,在基片表面的图案化的吸附区上布满有机功能材料分子,即在基片表面吸附的有机功能材料层保留下来形成所需图案,从而在基底上制备出有机功能材料层的图案。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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