[发明专利]荧光X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 201510321618.2 申请日: 2015-06-12
公开(公告)号: CN105277579B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 高桥春男;广濑龙介;八木勇夫;高原稔幸 申请(专利权)人: 日本株式会社日立高新技术科学
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 秦琳;姜甜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及荧光X射线分析装置。提供一种能够简便地进行与测定通常的样品的情况相同的条件下的校正测定的荧光X射线分析装置。所述荧光X射线分析装置具备:X射线源;用于对将来自该X射线源的X射线作为一次X射线照射到样品的区域进行限制的照射区域限制单元;用于检测从样品产生的二次X射线的检测器;用于对包含X射线源、照射区域限制单元和检测器的装置进行校正的校正用样品;用于在作为保持该校正用样品并且从所述一次X射线的路径偏离的任意的位置的退避位置和照射从照射区域限制单元射出的X射线的一次X射线照射位置这2个位置之间移动的校正样品移动机构;以及载置样品的样品台,校正样品移动机构为与所述样品台独立的机构。
搜索关键词: 荧光 射线 分析 装置
【主权项】:
1.一种荧光X射线分析装置,其特征在于,具备:X射线源;用于对将从所述X射线源射出的X射线作为一次X射线照射到测定样品的区域进行限制的照射区域限制单元;用于检测从所述测定样品产生的二次X射线的检测器;用于对包含所述X射线源、所述照射区域限制单元和所述检测器的装置进行校正的校正样品;为了以在所述一次X射线的照射轴上分离规定的距离地与所述照射区域限制单元相向的方式配置所述测定样品的表面而载置该测定样品并且能够移动的样品台;用于使所述校正样品在作为保持所述校正样品并且从所述一次X射线的路径偏离的任意的位置的退避位置和与离所述照射区域限制单元分离规定的距离的所述测定样品表面的被照射所述一次X射线的位置即一次X射线照射位置相同的空间位置之间移动的与所述样品台独立的校正样品移动机构;控制部,能够控制所述X射线源、所述检测器和所述校正样品移动机构;以及自动装置校正单元,具有使所述校正样品移动机构工作来使所述校正样品移动到与向所述测定样品的所述一次X射线照射位置相同的空间位置、利用所述检测器检测通过对所述校正样品照射从所述照射区域限制单元射出的X射线而产生的二次X射线并且基于其结果自动地校正所述装置的功能,所述样品台具备向XYZ的三维方向之中的至少一个方向移动的样品台移动机构,所述控制部具有以在使所述校正样品移动机构工作之前使所述样品台移动机构动作而使所述校正样品与所述测定样品不会干扰的方式进行控制的功能。
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