[发明专利]利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法在审

专利信息
申请号: 201510322327.5 申请日: 2015-06-13
公开(公告)号: CN105000531A 公开(公告)日: 2015-10-28
发明(设计)人: 陈宜方;徐晨 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于电子束光刻技术领域,具体为一种利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法。本发明步骤包括:首先利用Beamer软件形成曝光文件,而后在硅片表面旋涂上一层光刻胶,利用电子束光刻,经过显影后得到微纳尺寸的微型照片。本发明利用电子束光刻曝光光刻胶,显影后不同厚度光刻胶具有不同的黑白灰度,从而生成微纳尺寸的微型照片。本发明方法对微纳图形结构的形貌可控,生成的微型照片具有纳米级别的分辨率,并可实现大面积制造。
搜索关键词: 利用 灰度 曝光 生成 尺寸 微型 照片 方法
【主权项】:
利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法,其特征在于具体步骤如下:(1)利用Beamer软件形成曝光文件;(2)清洗硅衬底,在衬底上旋涂2‑5微米厚的PMMA胶,并烘烤使之硬化,烘烤温度为170‑190摄氏度,时间为30‑60分钟;(3)使用电子束光刻机对于设计好的图形进行曝光;(4)在22‑24摄氏度的1:1‑1:3的MIBK与IPA溶液中显影1‑5分钟,随后立刻在IPA溶液中冲洗30‑60秒。
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