[发明专利]一种带CCD保护的4F相位成像系统有效
申请号: | 201510323103.6 | 申请日: | 2015-06-12 |
公开(公告)号: | CN106442426B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 宋瑛林;杨俊义 | 申请(专利权)人: | 苏州微纳激光光子技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 汪旭东 |
地址: | 215500 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种带CCD保护的4F相位成像系统装置,将4F相位系统进行改造使得激光器和CCD位于同一侧,设置可移动衰减片支架,通过移动衰减片位置获得线性光斑与非线性光斑。在单脉冲作用下测量材料非线性系数。按照本发明装置工作测量光路简单,测量灵敏度高,数据处理简单、无需移动样品,切测量过程中不会由于误操作引起CCD损坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 ccd 保护 相位 成像 系统 | ||
【主权项】:
一种带CCD保护装置的4F相位成像系统,将经过相位物体光束通过两个反射镜反射,经半透半反镜分为两束,一束经过透镜样品成像于CCD,另一束经过透镜成像于CCD,其特征在于入射激光与成像CCD位于光路同一侧,测量步骤为:(1)将衰减片移至图2所示位置,采集线性光斑;(2)将衰减片移至图3所示位置,采集非线性光斑;在入射激光束、CCD与测量光路之间设置导轨,两个衰减片位于导轨上,相对距离固定,可以在导轨上自由移动。
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