[发明专利]去像素化轮廓线重建的线性阴影图方法有效
| 申请号： | 201510323626.0 | 申请日： | 2015-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN104933754B | 公开（公告）日： | 2017-09-19 |
| 发明（设计）人： | 冯结青;杜文俊;梅井翔 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G06T15/60 | 分类号： | G06T15/60 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种去像素化轮廓线重建的线性阴影图方法，包括(1)从光源空间绘制场景，存储像素中心的深度值为第一阴影图，在x和y方向偏移半个纹素大小得到第二阴影图，第一阴影图和第二阴影图构成线性阴影图；(2)从视域空间绘制场景，将像素变换到光源空间，并把像素分类为轮廓线像素和非轮廓线像素；(3)对于非轮廓线像素使用线性插值计算遮挡物深度，比较深度值得到阴影结果，对于轮廓线像素，使用去像素化的轮廓线重建方法对阴影边界进行重建。本发明提出了一种去像素化轮廓线重建的线性阴影图方法，能确保阴影轮廓线的光滑性，且使用较小的存储开销，就能有效地减弱阴影图方法中的走样现象。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 轮廓 重建 线性 阴影 方法 | ||
【主权项】：
一种去像素化轮廓线重建的线性阴影图方法，其特征在于，包括：(1)从光源空间绘制场景，存储所有像素中心的深度值为第一阴影图，在x和y方向各偏移半个纹素大小得到第二阴影图，第一阴影图和第二阴影图构成线性阴影图；(2)从视域空间绘制场景，将像素变换到光源空间，并把像素分类为轮廓线像素和非轮廓线像素；(3)对于非轮廓线像素使用线性插值计算遮挡物深度值，比较深度值得到阴影结果，对于轮廓线像素，使用基于深度值的去像素化方法重建阴影的轮廓线。
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