[发明专利]光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法

摘要

一种光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法，该装置包括光刻机的光源、照明系统、掩模台、投影物镜、工件台和计算机，还包括物面光栅板、波像差传感器。利用该装置原位检测光刻机的成像质量波像差、畸变与场曲，提高了成像质量检测的并行通道数和检测速度。

主权项

一种光刻机原位多通道成像质量检测装置，该装置包括光刻机的光源(1)、照明系统(2)、掩模台(4)、投影物镜(5)、工件台(7)和计算机(8)，其特征在于，还包括物面光栅板(3)和波像差传感器(6)，上述各部件的连接关系如下：所述的物面光栅板(3)置于掩模台(4)上，所述的波像差传感器(6)置于工件台(7)上，所述的波像差传感器(6)与计算机(8)相连；所述的物面光栅板(3)由n组占空比为50％的物面光栅组成；每组物面光栅包括光栅线沿y方向的第一光栅(3X1)和光栅线沿x方向的第二光栅(3X2)，周期为PoX；所述的X为每组光栅的编号，用A、B、C…表示，如A组物面光栅的第一光栅3A1和第二光栅3A2，B组物面光栅的第一光栅3B1和第二光栅3B2；所述的波像差传感器(6)包括沿光束传播方向依次放置的像面光栅板(601)、小孔阵列(602)和二维光电传感器(603)；所述的像面光栅板(601)包括n组占空比50％的像面光栅(601X)，周期为PiX，所述X为每组光栅的编号，用A、B、C…表示；所述的第一光栅(3X1)和第二光栅(3X2)的周期PoX与所述的像面光栅(601X)的周期PiX满足如下关系；PoX＝PiX·M其中，M为光刻机投影物镜(5)的成像放大倍数，PiX由剪切率sX、光源波长λ和光刻机投影物镜的数值孔径NA决定：PiX=λ2sX·NA;]]>所述的物面光栅板(3)上每组物面光栅之间的间距do与像面光栅板(601)上每个像面光栅之间的间距di满足如下关系：do＝di·M，物面光栅板(3)上每组物面光栅的第一光栅(3X1)和第二光栅(3X2)之间的间距相等，物面光栅的组数与像面光栅的数目相等，皆为n，所述的n为大于1的自然数。