[发明专利]具有调整耐受性的化学机械抛光层调配物在审
| 申请号： | 201510329884.X | 申请日： | 2015-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN105313003A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | B·钱;M·W·德格罗特;M·F·索南夏因 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 樊云飞;陈哲锋 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光垫，其含有：具有组合物和抛光表面的聚氨基甲酸酯抛光层；其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值；其中所述抛光表面被调适用于抛光衬底；且其中所述抛光表面展现≥80％的调整耐受性。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 调整 耐受 化学 机械抛光 调配 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光垫，其包含：具有组合物和抛光表面的聚氨基甲酸酯抛光层；其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值；其中所述抛光表面被调适用于抛光衬底；且其中所述抛光表面展现≥80％的调整耐受性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司，未经罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510329884.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种封闭式快速取样器
- 下一篇：一种丝印硅胶油墨的配方及其制作工艺
