[发明专利]一种具有自清洗作用的抛光剂及抛光液有效

专利信息
申请号: 201510332607.4 申请日: 2015-06-16
公开(公告)号: CN104962199B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 王乐军;徐明艳;代克;周万里 申请(专利权)人: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C09G1/18
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司41119 代理人: 牛爱周
地址: 450000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种具有自清洗作用的抛光剂及抛光液,所述抛光剂包括以下重量份数的组分二氧化硅5~40份、碱性化合物0.2~10份、椰子酸二乙醇胺缩合物0.001~1份、表面活性剂0.001~0.5份。本发明的抛光液,添加的椰子酸二乙醇胺缩合物可以吸附到有机物和磨料颗粒的表面,大大增加了有机物和磨料颗粒的表面活性,其与其他组分相互配合,协调作用,使抛光液具有自清洗作用;大大减少甚至完全避免了有机物和磨料颗粒在外延晶片表面的粘附;抛光后的晶片表面不会粘附有机物和磨料颗粒,或是仅有极少的粘附,后续勿需再用酸碱清洗,避免了对外延膜层产生腐蚀损坏,简化了清洗工序,节约了清洗成本,适合推广应用。
搜索关键词: 一种 具有 清洗 作用 抛光
【主权项】:
一种具有自清洗作用的抛光剂,其特征在于:由以下重量份数的组分组成:二氧化硅5~40份、碱性化合物0.2~10份、椰子酸二乙醇胺缩合物0.001~1份、表面活性剂0.001~0.5份;所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠与壬基酚聚氧乙烯醚的混合物;十二烷基硫酸钠与壬基酚聚氧乙烯醚的质量比为1:0.3~8;所述碱性化合物为氢氧化钾、氢氧化钠、四甲基氢氧化铵、乙二胺中的任意一种或多种。
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