[发明专利]用于制备化合物的系统有效

专利信息
申请号: 201510334946.6 申请日: 2015-06-16
公开(公告)号: CN104923142B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 王学海;黄璐;许勇;杨仲文;张毅;张守波;熊传超;黄文杰 申请(专利权)人: 湖北生物医药产业技术研究院有限公司
主分类号: B01J19/12 分类号: B01J19/12
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 代理人: 李志东
地址: 430075 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了用于制备化合物的系统。根据本发明的实施例,所述用于制备化合物的系统包括光反应设备;以及纯化设备,所述纯化设备与所述光反应设备相连,其中,所述光反应设备包括反应容器,所述反应容器中限定出光反应空间,并且所述反应容器是由透明材料制成的;以及光源,所述光源设置在所述反应容器的外部。本发明的用于制备化合物的系统具有下列优点的至少之一操作简便、可控性强、光照质量较好或者较完全地保障光化学反应的进行。
搜索关键词: 用于 制备 化合物 系统
【主权项】:
一种用于制备化合物的系统,其特征在于,包括光反应设备;以及纯化设备,所述纯化设备与所述光反应设备相连,其中,所述光反应设备包括:反应容器,所述反应容器中限定出光反应空间,并且所述反应容器是由透明材料制成的;光源,所述光源设置在所述反应容器的外部;支架,并且所述光源设置在所述支架上;竖向滑轨,所述竖向滑轨设置在所述支架上,并且所述光源可移动地设置在所述竖向滑轨上,所述光反应设备包括多个所述光源和多个所述竖向滑轨,并且每个所述竖向滑轨上设置至少一个所述光源;以及液面限位件,所述液面限位件设置在所述反应容器的内壁上,并且所述液面限位件距离所述反应容器底部的高度为H,所述光源与所述反应容器竖轴的平均距离为R2,其中,H与R2满足关系式:0.5≦H/R2≦2。
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