[发明专利]一种通用的阴影图生成阴影的方法

摘要

本发明公开了一种通用的阴影图生成阴影的辅助技术，包括对轮廓线模板进行预计算得到轮廓线采样点查找表；从光源空间绘制场景，结合基于均匀点采样的阴影图算法构成线性阴影图；从视域空间绘制场景，将像素变换到光源空间，并把像素分类为轮廓线像素和非轮廓线像素；对于非轮廓线像素使用线性插值计算遮挡物深度，比较深度值得到阴影结果；对于轮廓线像素，通过局部的相似性关系在预先构建的轮廓线采样点查找表中读取轮廓线采样点，根据像素坐标与轮廓线采样点的位置关系，得到阴影结果。本发明提供一种阴影图生成阴影的辅助技术，在现有阴影图算法基础上，使用较少的额外性能开销，改进这些算法的阴影生成质量或算法性能。

主权项

一种通用的阴影图生成阴影的方法，其特征在于，包括：(1)对去像素化轮廓线重建技术中的轮廓线模板进行预计算得到轮廓线采样点查找表；所述预计算的方法为：(1‑1)枚举纹素附近相似性图：对于每一个深度采样点，判断其和八邻域的相邻深度采样值的连续关系，生成相似性图；(1‑2)以每一个深度采样点和若干条相邻的半边为一个单位，对相似性图进行voronoi剖分，得到轮廓线的位置和方向；(1‑3)根据轮廓线的位置计算B样条曲线，对B样条曲线均匀采样5个点，并计算该5个点的坐标，从而建立轮廓线采样点查找表；(2)从光源空间绘制场景，结合基于均匀点采样的阴影图算法获得第一阴影图，在x和y方向各偏移半个纹素大小得到第二阴影图，第一阴影图和第二阴影图构成线性阴影图；(3)从视域空间绘制场景，将像素变换到光源空间，并把像素分类为轮廓线像素和非轮廓线像素；(4)对于非轮廓线像素使用线性插值计算遮挡物深度，比较深度值得到阴影结果；对于轮廓线像素，通过局部的相似性关系在预先构建的轮廓线采样点查找表中读取轮廓线采样点，根据像素坐标与轮廓线采样点的位置关系，得到阴影结果。