[发明专利]照明器件、曝光装置、调整方法和用于制造物品的方法有效
申请号: | 201510336459.3 | 申请日: | 2015-06-17 |
公开(公告)号: | CN105278258B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 米山义邦;昼间健太郎;大阪昇 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 程连贞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及照明器件、曝光装置、调整方法和用于制造物品的方法。一种照明器件包括多个光源单元,每个光源单元包含光源、反射来自光源的光的镜子和阻挡被镜子反射并且向照明表面行进的光的一个或更多个遮光部件;以及在瞳面中形成叠加了来自各光源单元的光的叠加光的光强度分布并且用叠加光照射照明表面的照明光学系统。在照明光学系统的瞳面中的光强度分布中,包含于光源单元中一个中的所有遮光部件的阴影的位置与包含于其余光源单元中的至少一个中的所有遮光部件的阴影的位置分开。 | ||
搜索关键词: | 照明 器件 曝光 装置 调整 方法 用于 制造 物品 | ||
【主权项】:
一种照射照明表面的照明器件,其特征在于,所述照明器件包括:多个光源单元,每个光源单元包含:光源、反射来自光源的光的镜子、以及阻挡被镜子反射并且向照明表面行进的光的一个或更多个遮光部件;和照明光学系统,在瞳面中形成叠加了来自各光源单元的光的叠加光的光强度分布,并且用叠加光照射照明表面,其中,在照明光学系统的瞳面中的光强度分布中,包含于光源单元中的一个光源单元中的所有遮光部件的阴影的位置与包含于其余光源单元中的至少一个中的所有遮光部件的阴影的位置分开。
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